VIL1000激光干涉光刻機(jī)

產(chǎn)品簡(jiǎn)介

VIL1000激光干涉光刻機(jī)
VIL系列納米圖形系統(tǒng)（激光干涉光刻機(jī)）具有快速可重構(gòu)光束傳輸、主動(dòng)圖形穩(wěn)定和精確樣品定位等強(qiáng)大功能。該系統(tǒng)可以通過(guò)使用標(biāo)準(zhǔn)2cm×2cm正方形或用戶(hù)定義形狀的圖案場(chǎng)進(jìn)行重復(fù)曝光，在8英寸大面積上產(chǎn)生各種納米結(jié)構(gòu)，例如1D光柵線和2D柱/孔圖案，周期從240 nm到1500 nm。

產(chǎn)品型號(hào)：

更新時(shí)間：2025-09-19

廠商性質(zhì)：代理商

訪問(wèn)量：2202

產(chǎn)品咨詢(xún) 13501903943

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產(chǎn)品分類(lèi)

光刻機(jī)

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VIL1000激光干涉光刻機(jī)

VIL1000激光干涉光刻機(jī)

1、可實(shí)現(xiàn)同一晶圓上不同納米結(jié)構(gòu)的分區(qū)光刻；

2、制作各種一維、二維納米圖案；

3、最小線寬低于50nm；

4、與其他同類(lèi)設(shè)備的功能對(duì)比圖如下：

	電子束直寫(xiě)	激光直寫(xiě)	紫外光刻機(jī)	激光干涉光刻機(jī)
設(shè)備示例
代表廠商	德國(guó)的Raith和Vistec, 日本的JEOL和Elionix	海德堡和Raith	Eulitha	InterLitho
代表性產(chǎn)品型號(hào)	Raith EBPG Plus	海德堡 DWL 66+	Eulitha PhableR 100	VIL1000
主要用途	高分辨率掩模版制造和納米結(jié)構(gòu)的制備	對(duì)分辨率要求不高的掩模版制造和納米結(jié)構(gòu)制備	分辨率適中的納米結(jié)構(gòu)制備	大面積、低成本、高通量制備高分辨率周期性納米結(jié)構(gòu)，用于微納光學(xué)、生物芯片等新興應(yīng)用
刻寫(xiě)的最小物理線寬	<10nm	~300nm	60nm	40nm
價(jià)格和維護(hù)成本	高	中	中	較低
自動(dòng)化程度	全自動(dòng)	全自動(dòng)	部分手動(dòng)	全自動(dòng)
設(shè)備效率	低	低	高	高
需要掩模	否	否	是	否
特征尺寸調(diào)制難度	難，樣品需要重新刻寫(xiě)	難，樣品需要重新刻寫(xiě)	難，需要重新刻寫(xiě)模板	容易，幾分鐘可實(shí)現(xiàn)